Uncategorized

Mạ Điện_Bài 10: Chất tẩy rỉ thông thường

tay-gi1

1. TẲY GỈ

Tẩy gỉ là quá trình xử lý khi cho chi tiết vào trong dung dịch axit và chất làm chậm để hòa tan lớp ôxit trên bề mặt kim loại, loại bỏ những điểm gỉ, lớp ôxit, màng thụ động hóa… làm lộ bể mặt kim loại nền.

– Theo tính chất, phân làm 2 loại: tẩy gỉ điện hóatẩy gỉ hóa học.

– Theo công dụng, phân làm 4 loại: tẩy gỉ thông thường, tẩy gỉ mạnh, tẩy gỉ bóngtẩy nhẹ.

a. Tẩy gỉ thông thường

Có thể tẩy được lớp oxit và lớp gỉ trẽn bề mặt kim loại.

b. Tẩy gỉ mạnh

Khi tẩy gỉ thông thường không đạt được mục đích, cần phải dùng dung dịch nồng độ cao, ở nhiệt độ nhất định để tẩy đi lớp ôxit và gi tương đới dày.

c. Tẩy gỉ bóng

Hòa tan lớp màng ôxit mỏng trên bể mặt kim loại, loại bỏ mùn, nâng cao độ bóng chi tiết. Dung dịch đánh bóng hóa học cũng là dung dịch tẩy gì bóng.

d. Tẩy nhẹ

Chi tiết kim loại sau khi tẩy gỉ thông thường và tay gỉ mạnh, trước khi đi vào bể mạ cần phải tẩy nhẹ để hòa tan lớp màng thụ động hóa, hoạt hóa bề mặt làm cho lớp mạ gắn chắc với kim loại nền.

2. CHẤT TẨY GỈ THÔNG THƯỜNG

a. H2SO4

– Ở nhiệt độ thường, sự hòa tan lớp ôxit kim loại trong dung dịch H2S04 yếu. Khi nồng độ H2S04trên 40%, khả năng hòa tan lớp ôxit giảm đi rõ rệt. Khi nồng độ lớn hơn 60%, lớp ôxit hầu như không hòa tan.

– Khả năng ăn mòn sắt thép nền của H2S04 nóng mạnh bóc đi lớp ôxit dày. Nhưng nhiệt độ quá cao sẽ gây ăn mòn kim loại nền, gây giòn hvđro, vì thế chỉ gia nhiệt ờ nhiệt độ 50 – 60°c, không vượt quá 75°c, đồng thời cho thêm chất làm chậm.

– Chi tiết là sắt thép tẩy ở nồng độ H2S04 10 – 20% (thể tích), nhiệt độ 40″c. Khi nồng độ FeS04 đạt đến 2I5 g/l (hàm lượng Fe vượt quá 80 g/l) phải thay thế dung dịch mới.

– Dung dịch H2S04 dùng để tẩy sắt thép, đổng và hợp kim đồng. Hỗn hợp H2S04 và HN03 nâng cao độ bóng và làm giảm tốc độ ăn mòn của HNO3 với nển đồng, nén sắt.

b. HCI

– Ở nhiệt độ thường. sự hòa tan lớp ôxit kim loại trong dung dịch HC1 mạnh nhưng hòa tan lớp kim loại nền yếu. Tẩy trong HC1 gây ít ăn mòn kim loại nền và giảm giòn hydro. Ở nhiệt độ thường, dung dịch HC1 tẩy được nhiều kim loại.

– Khi nồng độ và nhiệt độ thích hợp tốc độ ăn mòn trong dung dịch HC1 cao gấp 1.5 – 2 lần trong dung dịch H2S04. HC1 bay hơi rất mạnh, vì vậy dễ ăn mòn thiết bị, gây ô nhiễm môi trường nên khi tẩy trong HC1 phải có thiết bị hút độc tốt.

c. HN03

– HNO, là thành phần quan trọng trong dung dịch ăn mòn bóng. Hỗn hợp HNO3 và HF để tẩy lớp ôxit trên chì, thép không gỉ, hợp kim nền niken, nền sắt… Hỗn hợp HNO3 và H2S04 tẩy bóng đồng và hợp kim đồng.

d. H3PO4

– H3PO.4 có tác dụng ăn mòn kém, vì vậy để tăng cường ăn mòn, cần phải tăng nhiệt. H3PO4 dùng đê tẩy gỉ mối hàn, cấu kiện trước khi sơn. Hỗn hợp của H3PO4 với HNO3, H2S04, CH3COOH hoặc Cr03 với tỷ lệ nhất định dùng để tẩy bóng nhôm, đồng, sắt, thép…

e. Chất làm chậm

– Dung dịch tẩy gỉ cho thêm chất làm chậm có thể phòng ngừa kim loại nền bị ăn mòn nhiều, tránh hiện tượng giòn hydro. Tuy nhiên, chất làm chậm tạo màng mỏng trên bề mặt, vì vậy phải rửa sạch nếu không độ bám chắc không tốt. Chất làm chậm thường là chất hữu cơ, đa số là hợp chất hữu cơ có nitơ hoặc lưu huỳnh trong thành phần cấu tạo, ví dụ như thioure, uropropin…